晶合集成获得发明专利授权：“反应腔室的清洁方法及反应腔室”

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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“反应腔室的清洁方法及反应腔室”，专利申请号为CN202411931915.4，授权日为2025年5月16日。

专利摘要：本申请实施例提供了一种反应腔室的清洁方法及反应腔室，所述清洁方法包括：对所述反应腔室进行第一清洁过程；其中，所述第一清洁过程产生冷凝于所述反应腔室的至少部分区域的清洁副产物；加热所述至少部分区域，以在针对所述反应腔室的第二清洁过程中，清洁所述至少部分区域的清洁副产物。所述反应腔室的清洁方法通过针对第一清洁过程中存在的清洁副产物残留进行二次清洁，在一定程度上能够改善CVD反应腔室内颗粒物污染的情况。

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今年以来晶合集成新获得专利授权136个，较去年同期增加了7.94%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了12.84亿元，同比增21.41%。

数据来源：天眼查APP

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