盛美上海获得发明专利授权：“基板清洗方法和装置”

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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示盛美上海（688082）新获得一项发明专利授权，专利名为“基板清洗方法和装置”，专利申请号为CN201980101720.8，授权日为2026年4月3日。

专利摘要：一种清洗具有图形结构的基板的方法包括以下步骤：使用气液雾化清洗基板表面(601)；使用TEBO兆声波清洗基板表面(602)；干燥基板(603)。使用TEBO兆声波清洗去除基板上的小尺寸颗粒，并使用气液雾化清洗去除基板上的大尺寸颗粒。该方法能够实现在不损伤或极少损伤器件的同时达到很好的清洗效果。本发明还揭示了一种基板清洗装置。

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今年以来盛美上海新获得专利授权10个，较去年同期增加了400%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了10.03亿元，同比增37.64%。

通过天眼查大数据分析，盛美半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目173次；财产线索方面有商标信息39条，专利信息694条，著作权信息1条；此外企业还拥有行政许可31个。

数据来源：天眼查APP

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